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設備更新 | DENS TEM 原位樣品桿產品選型指南

 更新時間:2024-07-10 點擊量:568

原位樣品桿系列產品在科學研究和工業領域具有廣泛的應用,研究人員可以利用這些設備進行材料結構、相變、生長過程、電化學反應等方面的原位觀察,在材料性能、催化、電化學,納米技術和材料合成等許多領域都具有廣泛的應用。

 

 

原位樣品桿系列產品選型 

 

01 Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿

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Lightning Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿是 DENSsolutions 全新升級創新的原位解決方案,可以在冷卻或加熱樣品的同時,對其施加可控的電學刺激,并以原子級分辨率在透射電鏡下觀察樣品的實時動態過程。

 

主要性能參數

1.系統操控模式:冷凍&加電,加熱&加電

2.可運行的溫度范圍:≤ -160 ℃ - 800 ℃

3.冷凍方式:外置液氮罐

4.卻和穩定時間:≤ 60 min

5.分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置)

6.可達到的電流范圍:1 pA - 100 mA

 

02 Lightning TEM 原位熱電樣品桿

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Lightning 原位熱電樣品桿可在精確控制加電和加熱環境的同時觀察樣品變化的實時動態過程。Lightning 能夠在進行熱學研究的同時,在 pA 電流靈敏度下進行 I-V 測試,其搭配的 Nano-Chip 芯片能在 900 ℃ 高溫下同時實現高于 300 kV/cm 的電場,芯片擁有多種配置,能夠滿足不同的實驗要求,同時保持 TEM 的原子級分辨率成像能力。

 

主要性能參數

1.溫度范圍:RT - 1,300 °C

2.可達到的電場范圍:≥ 300 kV/cm at RT/900 °C

3.可達到的電流范圍:1 pA - 100 mA

4.可達到的分辨率:≤ 60 pm

5.分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置)

6.漂移率:≤ 0.5 nm/min  

 

03 Climate TEM 原位氣相加熱樣品桿

 

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Climate 原位氣相加熱樣品桿可在在氣氛環境下同時觀察樣品在加熱時的狀態變化,能夠在 2 bar 的氣體環境中進行達 1000 ℃ 的高溫實驗,并保持 TEM 的原子分辨率,與 DENS 專有的氣體分析儀集成組合使用,可進行反應產物分析,是當前市場上少有的支持結構和化學信息動態關聯的原位系統。

同時為了滿足客戶研究蒸汽類反應物對材料的影響的實驗要求,我們設計了蒸汽發生器,能夠單獨地將蒸氣添加到任何氣體混合物中,并擁有獨立控制蒸汽參數的能力,便于開展相對應的研究,為原位實驗中提供實驗自由度。

 

主要性能參數

1.加熱范圍:RT - 1,000 °C

2.溫度穩定性:≤ ± 0.01 °C

3.分辨率:≤ 100 pm(取決于透射電子顯微鏡配置)

4.漂移率:≤ 0.5 nm/min

5.氣體輸入管線:3

6.氣體流量范圍(標準化):0, 0.01-1 ml / min

 

04 Stream TEM 原位液相加熱/加電樣品桿

 

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Stream 原位液相加熱/加電系統為材料科學、化學和生物學中各類研究提供了全新的觀察視野。其設計的 Nano-Cell 芯片使其對樣品加熱或加電時可獨立控制流速和液體厚度。

 

同時全新升級可集合組裝的液體供應系統 (LSS) ,引入了精準控制和可重復使用的惰性氣體吹掃能力。通過吹掃,可以迅速去除樣品中多余的液體,從而實現高分辨成像、有價值的元素分析和電子衍射。并且液體供應系統 (LSS)能夠主動測量液體流量,便于比較不同的實驗結果。此外,這意味著可以很容易地發現系統中潛在的堵塞,并迅速采取行動,能夠高效和有效地利用 TEM 機時。這些設計為原位液相實驗的原子級分辨像和高質量的 EDS、EELS 結果帶來了新的可能性。

 

主要性能參數

1.溫度范圍:RT - 100 °C

2.液體模式:靜態液體、流動液體

3.液體流量測量:可測量,通過入口液體流量計

4.液體厚度控制:可控制,通過入口和出口液體壓力控制

5.可達到的分辨率 :≤ 3 ? (取決于透射電子顯微鏡配置)

6.可達到的電場范圍:1 pA - 100 mA

 

 

 

05 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿

 

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Wildfire 原位加熱樣品桿旨在探索材料在高溫下的反應和狀態變化而設計,其穩定性超越了市場上大部分的同類產品,溫度范圍高可達 1300 ℃,并在所有的方向上保證優異的溫度控制性和樣品穩定性,確保了在高溫下觀察樣品動態變化過程,且 TEM 保持較高的分辨率和分析性能。

 

Nano Chip 芯片和四點探針法可快速反饋溫度變化情況,從而實現即時穩定和精確的溫度控制,避免出行加熱不均勻或熱反饋不及時的問題。對于需要進行高溫下三維重構研究的客戶,可選擇配備了 α 傾轉角高達 70° 的樣品桿,以便進行多方位的研究。

 

主要性能參數

1.加熱控制:四探針法

2.溫度范圍:RT - 1,300 °C

3.溫度均勻性:≥ 99.5 %

4.分辨率:≤ 60 pm(取決于透射電子顯微鏡配置)

5.漂移率:≤ 0.5 nm/min

6.視野范圍:850 µm2

 

 

DENS 軟件系統:Impulse 集成軟件

 

 

Impulse 軟件讓研究人員可以控制實驗條件,只需在電腦上設置好所需的原位觀測實驗條件,Impulse 將完成剩下的工作。在原位 TEM 實驗期間,軟件將根據設置好的條件進行實驗驗證過程,而您只需專注于實驗結果,同時軟件上可以存儲您的實驗設計,以便重現實驗過程。

 

軟件特征和優勢:

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01.智能自動化:在實驗過程中,您可以專注于其他事情,而智能自動化會跟蹤測量結果并確保滿足所設置的樣品條件。

 

02.靈活的數據儀表板:Impulse 在排列和調整圖表大小方面為您提供了極大的靈活性,可輕松掌握任何數據細節。

 

03.數據整合:軟件支持將您的原位環境條件實驗數據與其他數據同步,并在幾秒鐘內為您的相機和探測器圖像提供環境條件注釋。

 

04.實驗自由:Impulse 軟件支持您使用自己創建的 Python 腳本進行實驗控制。您可以選擇創建自己的腳本,或者使用我們的預制腳本,甚至可以在線訪問數千個 Python 模塊。這種實驗自由將使您能夠擴展研究范圍并開展您的創造性實驗控制。

 

 

全新升級的 FIB 樣品臺


 

DENSsolutions 現在推出了第三代 FIB 制樣樣品臺,此設備可以幫助您更簡單、更安全、更快捷地制備薄片樣品,且適配 DENS 樣品桿芯片。

 

 

TEM 樣品制樣設備

 


 

Technoorg Linda 的主要產品包括離子研磨儀、離子減薄儀、離子精修儀和樣品制備相關的配件和耗材。其產品可配備了超高能離子槍和低能離子槍,通過控制離子束的能量和角度,可對樣品進行快速研磨及表面精細加工和拋光。Technoorg Linda 系列離子束樣品制備儀器是先進的樣品制備工具之一,廣泛應用于電子顯微鏡、X 射線衍射、能譜分析和納米技術等領域。

 

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Unimill 離子減薄儀:用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動離子束減薄系統

Gentle Mill 離子精修儀:用于制備高質量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站




傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

地址:上海市閔行區虹橋鎮申濱路 88 號上海虹橋麗寶廣場 T5,705 室

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